詳細摘要： 簡介該設備為冷場發射掃描電鏡配上冷凍傳輸系統組成的冷凍場發射掃描電鏡，適用于生物、食品、化學及其他材料樣品的微觀觀測與分析

詳細摘要： 簡介該設備通過自動重復使用聚焦離子束（FIB）制備截面并進行掃描電子顯微鏡（SEM）觀察，采集一系列連續截面圖像，以重構特定微區的三維結構

詳細摘要： 簡介日立高新公司推出的新一代FIB-SEM系統NX2000，整合了高性能聚焦離子束(FIB)技術和掃描電子顯微鏡(SEM)技術，配備有加工方向控制技術和Trip...

詳細摘要： 簡介該產品為NQAD氣溶膠激光計數檢測器，具有廣泛的應用范圍和高靈敏度，適用于幾乎所有不揮發和半揮發物質的檢測，尤其適合沒有紫外吸收、離子化困難及性質不明的物質

詳細摘要： 簡介AFM5500MII全自動掃描探針顯微鏡集成了高精度掃描器和自動化測量功能，并具備共享坐標樣品臺功能，可實現多維缺陷評價

詳細摘要： 簡介AFM100Plus/AFM100系統是一款以普及AFM應用為目標的通用型高分辨掃描探針顯微鏡系統，具備可靠探針更換和一鍵自動測量/處理/分析功能，支持AF...

詳細摘要： 簡介"Ethos"是一款集高性能與高靈活性于一身的科學儀器，采用高亮度冷場發射電子槍和電磁復合透鏡，支持低加速電壓下的高分辨觀察和實時FIB加工

詳細摘要： 簡介日立高效液相色譜儀(HPLC)結合其數據系統ChromAssist，提供全面的分析解決方案

詳細摘要： 簡介日立新推出的3DSpectAlyze軟件是一款專為熒光數據解析設計的多變量分析工具，支持樣品分組、模型創建、未知樣品判別和譜峰分離等多種分析功能

詳細摘要： 簡介熒光分布成像系統（EEMView）是創將相機與熒光分光光度計結合的設備，安裝于日立F-7000/71000熒光分光光度計內

詳細摘要： 簡介日立推出的ArBlade5000離子研磨系統具備高產量和廣域橫截面樣品制備能力，采用氬離子束濺射效應進行樣品表面拋光，避免了傳統機械拋光帶來的變形和機械應力

詳細摘要： 簡介日立DSC（差示掃描量熱儀）系列產品，包括DSC200和DSC600，適用于聚合物、制藥、化學、石油和天然氣、食品及金屬等行業

詳細摘要： 簡介EA1280XRF分析儀專為RoHS設計，提供快速、準確的有害物質測量，確保環保法規符合性

詳細摘要： 簡介日立新推出的ChromAssist4.1數據庫版色譜數據管理系統，具備用戶管理、權限管理、審計追蹤、電子簽名等數據完整性功能，并內置PostgreSQL12...

詳細摘要： 簡介日立高新磁控濺射器(MC1000)采用電磁管電極，能有效減輕對樣品的損傷并實現均勻涂覆，適用于高分辨率掃描式電子顯微鏡

詳細摘要： 簡介日立離子研磨裝置IM4000II是一款集斷面加工和平面研磨功能于一體的混合儀器，適用于高分辨成像及樣品表面特性分析

詳細摘要： 簡介日立雙光束紫外分光光度計UH5200/5210支持脫機控制或PC控制，并兼容前代型號的樣品倉

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詳細摘要： 簡介日立U-3900/3900H分光光度計具有低散射光和低噪聲的特點，適用于水質、環境、生物技術、制藥等領域，能測量寬范圍的吸光度并檢測高濃度樣品

詳細摘要： 簡介日立高新推出新款大型掃描電子顯微鏡“SU3800"與“SU3900"，支持超大/超重樣品測試，無需樣品切割