詳細摘要： 該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜，可進行反應濺射；用于硬質膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發。

詳細摘要： 該設備在同一真空室內具有熱蒸發和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍...

詳細摘要： 該設備為高真空多用途電阻蒸發鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發不同的材料。設備為立式頂開蓋結構，四對電極可單獨或共蒸發，樣品Φ300（max），樣品臺公自轉，公轉...

詳細摘要： 該設備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質膜等，用戶可以根據工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設備由主腔室和預備室...

詳細摘要： 該設備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統...

詳細摘要： 該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等）的研發和小批生...

詳細摘要： 磁控濺射鍍膜機是應用泛的PVD沉積設備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦...

詳細摘要： 應用領域：透射電鏡、離子探針、掃描電鏡、能譜儀分析等樣品制備，理化分析、科學研究等。主要功能：具備離子噴涂、離子濺射、離子清洗、蒸碳等功能

詳細摘要： 本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。

詳細摘要： 直線式勞埃透鏡鍍制機，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發的儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數多（數千層甚至更多）且膜層位...

詳細摘要： 倍增級磁控鍍膜機主要應用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現對光電倍增管的倍增級基底進行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工...

詳細摘要： 該設備為高真空ITO箱式鍍膜設備，主要用于沉積AZO、GZO等系列透明導電膜，金屬薄膜，半導體薄膜等，也可用于其他功能性薄膜的沉積。

詳細摘要： Φ70x4060集熱管鍍膜生產線，產線主體Φ1500x6000水冷真空腔室4段，依次為預處理室、工藝1室、工藝2室和出樣室；產線配移動式公自轉工裝架及工裝架閉環...

詳細摘要： 該設備為Φ1200x6000水冷真空腔室，配移動式公自轉工裝架，工裝架裝載量10-20只，公自轉工裝架點對點自動運行；設備帶偏壓清洗及輔助沉積功能，工藝加熱溫度...

詳細摘要： 中科科美提供中高溫集熱管鍍膜整體解決方案。　　該設備為太陽能光熱產業提供高溫集熱管真空涂層，可在不銹鋼管上沉積選擇性吸收膜，保證其有較高的吸收率和極低的發射率。

詳細摘要： 設備可完成光電倍增管高溫真空除氣、陰極激活、陰極轉移、MCP清刷、銦封等多道關鍵制備工序，是多種運動方式同時存在的復雜系統。主要應用于中微子探測試驗、高能物理探...