詳細摘要： 去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直...

詳細摘要： PLUTO-MH型等離子體表面處理系統是針對于高校，科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息，分析應...

詳細摘要： PLUTO-F型等離子體表面處理系統是一款功能*的桌面型表面等離子體設備，非常適合于高校、科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產，需要低成本運作且高效處理的企業...

詳細摘要： PLUTO-30是專為研發而設計的全功能等離子體系統，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網絡電源在整個過程區域產生均勻的等離子體。Pluto30的真空腔可支持...

詳細摘要： PLUTO-T等離子清洗機具有性能穩定、性價比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。 對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件...

詳細摘要： BD-20AC是美國ETP生產的一款手持式電暈機，實驗室小巧型電暈機，可以用于材料表面處理，高分子材料鍵合等。

詳細摘要： 高校和研究機構的客戶具有樣品種類多的特點，在完成預定實驗的同時，還希望具有更多的應用功能和良好的性能而這一切，PLUTO-T可以實現客戶的不同應用的需求。針對P...