實驗室 工業 電子超純水處理設備 BR-CS型

其他參數

　　制取高純水的主要工藝為反滲透+EDI工藝和反滲透+拋光混床工藝或反滲透+EDI+拋光混床工藝，出水水質小電阻率能達到10MΩ.CM-18.5MΩ.CM，生產用純水各行業標準不一，比如電池行業至少需要電阻率達到10MΩ.CM，電鍍行業用水、鍍膜玻璃用水一般要求達到15MΩ.CM，純凈水生產，白酒生產用純水，啤酒生產用純水一般只需達到電導率≤10μS/CM即可，一級反滲透工藝即可達到電導率≤10μS/CM，所以訂購純水設備，純凈水設備時先了解水質需要達到一個什么標準，然后再咨詢廠家工藝的可行性及效益性，以少的投入達到預期的純水水質標準。

一、反滲透設備出水水質在各行業應用：

　　電導率≤10μS/CM 普通化工原料配料用水、食品行業配料用水，普通電鍍行業沖洗用去離子水、紡織印染用除硬脫鹽純水、聚脂切片用純水、精細化工用水、民用飲用純凈水用水、其它有相同水質要求的用水.

　　電導率≤5μS/CM 電鍍化學品生產用水、化工行業表面活性劑生產用水、白酒生產用純水、啤酒生產用純水、民用飲用純凈水用水，其它有相同水質要求的用水.

　　電阻率5~10MΩ.CM 鋰電池生產用水、蓄電池生產用水、電廠鍋爐用純水、化工廠配料用水、其它有相同水質要求的用水.

　　電阻率:10~15MΩ.CM 實驗室用水、玻殼鍍膜沖洗用水、電鍍用純水、鍍膜玻璃用水、其它有相同水質要求的用水.

　　電阻率≥15 MΩ.CM 無菌水、口服液用水、電子行業鍍膜用水、光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、磁性材料用純水、其它有相同水質要求的用水.

　　電阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料鍋爐用軟化水、敏感新材料用水、半導體材料生產用水、金屬材料用水、防老化材料實驗室用水、有色金屬，貴金屬冶煉用水、鈉米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、太陽能電池生產用水、水晶片生產用水、實驗室用高純水、其它有相同水質要求的用水.

　　電阻率≥18 MΩ.CM ITO導電玻璃制造用水、化驗室用水、電子級無塵布生產用水等其它有相同水質要求的用水

　　
　　二、反滲透是美國60年代初研制的一種超高精度的利用壓差的膜法分離技術。可濾除水中的幾乎一切的雜質(包括有害的和有益的)，只能允許水分子通過。是一種側流過濾，就是原水在壓力作用下橫穿膜，其中一部分原水滲透過膜，而其余的原水沿著膜的切線方向流出系統而未經過濾。經過濾的水流由于滲過膜被稱為“滲透水”;另一支水流由于帶走了膜所阻擋的濃污染物而稱為“濃水”。因為原水水流和濃水水流平行于膜，而不是垂直于膜，所以此工藝過程稱為“側流”或“切向流”。反滲透是一種廣泛采用的膜分離工藝，利用壓力使水透過膜，而可溶性鹽份、膠體、有機物及微生物被截留在膜表面，隨濃水排放。它可有效地去除全部的有機物和90%。

　　~99%的離子。

　　優點：

　　反滲透技術是當今世界上、有效、節能的膜分離技術，與前置預處理系統配套使用，具有工藝、操作簡便、運行費用低、無污染、維護方便等優點;利用高壓泵的加壓，反滲透膜的截留，可有效去除水中固體溶解物、有機物、膠體、微生物以及細菌等雜質。具有應用范圍廣、主動化程度高、占地少、能耗低、出水水質好等優點。

　　應用領域：

　　1、制取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水;

　　2、制取熱力、火力發電鍋爐，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水;

　　3、制取醫藥工業所需的大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、無菌水及人工腎透析用純水等;

　　4、制取飲料(含酒類)行業的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水;

　　5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水;

　　6、制取電鍍工藝用去離子水;電池(蓄電池)生產工藝的純水;汽車、家用電器、建材產品 表面涂裝、清洗沌水;鍍膜玻璃用純水;紡織印染工藝所需的除硬除鹽水;

　　7、石油化工業如化工反應冷卻水;化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純水;

　　8、賓館、樓宇、社區機場房產物業的優質供水網絡系統及游泳池水質凈化;

　　9、線路板、電鍍、電子工業廢水處理及回用; 反滲透設備流程工藝圖

　　10、生活、醫院、制革、印染、造紙工業廢水及垃圾滲瀝液的處理技術因具有特殊的性而得到日益廣泛的

　　反滲透是制取各行業純水主要的設備，也是基本的工藝，但是各行業用水標準不同，有的需要出水電導率〈10us/cm(我國飲用純凈水標準是電導率〈10us/cm)有的需要電阻率大于10兆歐(10Ω.CM)比如電池行業用超純水，有的需要電阻率更大的超純水18.2兆歐(18.2Ω.CM)等，各行業雖然用水標準不同，但是制取純水的工藝大同小異，都是在反滲透的基礎上外加其他工藝制取各行業用純水

三、現為您介紹各種出水水質工藝流程：

　　出水水質電導率≤10μS/CM

　　原水——增壓泵——多介質過濾器——活性碳過濾器——軟化器(可選)——精密保安過濾器——高壓泵——RO一級反滲透裝置——紫外線殺菌器——純水箱

　　出水水質電導率≤5μS/CM

　　原水——增壓泵——多介質過濾器——活性碳過濾器——軟化器(可選)——精密保安過濾器——高壓泵——RO一級反滲透裝置——高壓泵——RO二級反滲透裝置——純水機——用水點

　　出水水質電導率≤1μS/CM

　　兩級RO反滲透設備+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電導率達到≤1.0μs/cm

　　出水電阻率：≥18MΩ.CM

　　預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象

　　出水電阻率≥15-17MΩ.CM

　　預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象

　　出水電阻率：≥10MΩ.CM

　　反滲透設備+混床工藝

　　從上可以看出雖然不同的出水水質要求的生產工藝不同，但是它們都是在反滲透的基礎上外加EDI工藝、離子交換工藝、混床工藝等，用以制取各行業用水設備。

四、一套反滲透設備系統包括哪些?

　　一臺完整的反滲透純水制取設備系統包括：預處理系統、反滲透裝置、后處理系統、清洗系統和電氣控制系統等

　　1、反滲透設備預處理：預處理一般為石英砂過濾器+活性碳過濾器+軟化水處理設備+精密過濾器組成，主要是為了后一級的反滲透進水而做的準備工作，它的主要作用是為了保護反滲透膜不受大顆粒特質的破壞，延長反滲透膜的使用壽命。確保出水水質。預處理?主要去除水中泥沙，鐵銹、膠體物質、縣浮物，色素、異味及家藥污染等有害物質。一般如果原水中鈣離子含量較高時，需增加軟水裝置。如果不高則軟化水裝置可不裝!

　　2、反滲透主機：由增壓泵，膜殼，反滲透膜，控制電路等組成，是整個水處理系統中的核心部分，產水水質的好壞主要也取決該部分。只要膜的型號及增壓泵的型號選取得當，反滲透主機對水中鹽分的過濾能力都能達到99%以上，一級反滲透設備出水電導率可保證在<10us/cm以下。二級反滲透設備出水電導率可保證在<3us/cm以下。

　　3、后處理系統：后處理部分主要是對反滲透主機制取的純水作進一步的處理，如果后續工藝接離子交換或電去離子(EDI)設備，則可以制取工業用超純水，如果是用在民用直飲水工藝上，則常常接后置殺菌裝置，例如可以接紙外線殺菌燈或者臭氧發生器，從而使出來的水可以直接飲用。

　　4、清洗系統：清洗系統為了保證反滲透系統的正常運行及延長反滲透膜元件的使用壽命，當反滲透系統運行一段時間后為去除碳酸鈣垢、水中金屬氧化物垢、生物滋長(細菌、真菌、霉菌等)等物質就需要對系統進行清洗。

　　5、電氣控系統：控制整套設備的電路系統

　　反滲透設備流程示意圖：礎上外加EDI工藝、離子交換工藝、混床工藝等，用以制取各行業用水設備。