PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機

1. 桌面型，性能穩定、操作簡便、使用成本極低、易于維護，高性價比。

2.小身材，有效處理面積大，可以輕松處理8寸硅片去膠等應用，可以處理203mm*203mm樣品。

3.采用氣浴電極，清洗效率高。

4.靈活的電極配置方案，最多可以處理2片8寸硅片

5.對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。

1. 真空腔規格: 材質6061-T6鋁合金 240mm*300mm*200mm

2. 電極：平板氣浴電極，材質6061-T6鋁合金

3. 電極尺寸：205mm *205mm

4. 頻率：13.56MHz (可選配40KHz射頻等離子源)

5. 功率：0-500W連續可調，精度1W,可在設備運行中隨時調整參數

6. 氣體控制：針式氣體流量閥， 60-600ml 2路氣體

7. 真空計：電偶式真空計，精度：0.01mTor

8. 控制方式：4.3寸工業控制觸摸屏，全手動控制和全自動控制兩種控制方式

控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態