OTF-1200X-80-II-4CV-PE-SL 是一款滑動式雙溫區PECVD 管式爐系統。該系統包含500W等離子源, 80Dx1600L mm 滑動式雙溫區管式爐, 4通道質量流量供氣系統和無油機械泵機組,這款 PECVD系統可用于生長納米或石墨烯。
技術參數
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| 產品優點 | - 與傳統的CVD相比,只需較低的制備溫度
- .滑軌式可快速加熱和快速冷卻
- 兩個加熱區,溫度梯度可達 200ºC
- 工作溫度1100°C
- 提供一個寬范圍的材料制備 ,如碳和 ZnO 納米管或納米線以及單層石墨烯。
- 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命
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| 等離子發射源 | - 輸出功率: 5 -500W ± 1% .
- 射頻頻率: 13.56 MHz ±0.005% .
- 反射功率: 200W
- 匹配: 自動
- 射頻接口: 50 Ω, N-type
- 噪音: <50 dB.
- 冷卻: 風冷.
- 電源: AC 208-240V, 50/60Hz
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| 無油真空泵機組 | - Pfeiffer(德國)高速( 226L/min) 無油干泵, 極限真空10E-3 Torr L
- KFD25 快接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連.
- 管內真空可達10E-2 Torr
- 數字真空計 ( 美國) 安裝在左法蘭上.
- 可選:本公司進口的防腐型數字式真空顯示計,其測量范圍為3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因測量氣體種類不同而需要系數轉換。
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| 質量流量計 | 四個精密的質量流量計(精度0.02% ) :數字顯示,自動控制. - MFC 1范圍: 0~100 sccm
- MFC 2和3: 0~200 sccm
- MFC 4范圍: 0~500 sccm
- 一個混氣罐,底部裝有泄廢液口.
- 4 個不銹鋼針閥安裝在供氣系統的左側,可手動控制4種氣體.
- 進氣口: 4個1/4NPS.
- 出氣口: 4個 1/4NPS.
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| 控溫軟件 | - 計算機可以通過控溫軟件控制爐子:RS485 接口和軟件是免費的,但需要購買數據線和一個控制模塊
- 為了獲得較大的升溫速度, 必須預熱到設定溫度,然后將爐子滑到樣品位置。
- 為了獲得較快的降溫速度,可將加熱的爐子從熱區滑到冷區.
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| 水循環冷卻器 | - 水冷法蘭要求:水流量 >= 10L/M .
- 可以用自來水進行水冷,為了節約水資源,我們建議使用水循環冷卻器。
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| 總尺寸 | - 爐體: 550 x 380 x 520 mm
- 滑軌: 1750 mm 長
- 移動架: 1200 x 1200 x 600mm.
- 凈重: 220 Lbs.
- 運輸重量: 500lbs.
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| 質保期和認證 | 一年質保期 (耗材部分:如爐管,“O”型高溫密封圈,加熱元件等不在保修范圍) CE 認證 |